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学习指导:双极型晶体管

【摘要】:图3-4 晶体管的结构和符号a)NPN型 b)PNP型1.晶体管概述基本结构。发射极的箭头既表示NPN型与PNP型晶体管的区别,又代表发射结正偏时发射极电流的实际方向。③当iB增加时,曲线上移,表明对于同一uCE,iC随iB增大而增大,即晶体管具有电流放大作用。击穿区不是晶体管的工作区域。

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图3-4 晶体管的结构和符号

a)NPN型 b)PNP型

1.晶体管概述

(1)基本结构。

两个PN结:集电结(或称CB结);发射结(或称EB结)。

引出3个电极:集电极C、基极B和发射极E。

(2)符号。

分为NPN型和PNP型晶体管,如图3-4所示。

发射极的箭头既表示NPN型与PNP型晶体管的区别,又代表发射结正偏时发射极电流的实际方向。

(3)电流放大和分配关系。

IE=IC+IB (3-1)

ICIB+(1+β)ICBO≈βIB (3-2)

集-基极间反向饱和电流ICBO:一般很小,是晶体管的有害成分。

电流放大系数:β≈IC/IB,可理解为将IB放大β倍变为IC,是晶体管最重要的特性。

2.晶体管的特性曲线

(1)晶体管电路3种基本组态:共发射极、共基极和共集电极电路,如图3-5所示。

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图3-5 晶体管3种基本组态电路

a)共发射极 b)共基极 c)共集电极

(2)共发射极输入特性曲线。

1)定义:输入电流iB与输入电压uBE之间的函数关系,如图3-6a所示。

2)特点:①输入特性曲线是一族曲线,对应于每一uCE,就有一条输入特性曲线。当uCE≥1V后,输入特性曲线族基本重合,因此uCE=1V的那一条可以作为代表。

②输入特性曲线与二极管正向伏安特性曲线相似。特性曲线上也有一段死区,只有在uBE大于死区电压时,晶体管才能产生iB。硅管的死区电压约0.5V,锗管约0.2V。

③在正常工作情况下,即放大工作状态时,硅管的uBE约为0.6~0.7V,锗管约0.2~0.3V。

若晶体管为PNP型时,输入特性曲线极性相反。即若坐标轴正向取-iB及-uBE,则特性曲线与NPN型一致。

(3)共发射极输出特性曲线。

1)定义:输出电流iC与输出电压uCE之间的函数关系,如图3-6b所示。

2)特点:①输出特性曲线是一族曲线,对应于每一iB都有一条输出特性曲线。

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图3-6 NPN型晶体管共发射极电路特性曲线

a)输入特性曲线 b)输出特性曲线

②当uCE>1V后,曲线比较平坦,即iC不随uCE增大而增大,具有恒流特性。

③当iB增加时,曲线上移,表明对于同一uCEiCiB增大而增大,即晶体管具有电流放大作用。

(4)晶体管共射电路工作状态。

可分为放大、截止和饱和工作状态,如图3-7所示。

1)放大区。

条件:发射结正偏,集电结反偏。

特点:iCiBiCiB成正比关系。

2)截止区。

条件:发射结反偏,集电结反偏。

特点:iB=0,iC=ICEO≈0。

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图3-7 晶体管3个工作区域

截止区对应于图3-7中iB=0那条输出特性曲线与横轴之间的部分。

3)饱和区。

条件:发射结正偏,集电结正偏。

特点:iCiB不成比例。即iB增大,iC很少增大或不再增大,达到饱和,失去放大作用。

饱和区对应于图3-7中输出特性曲线几乎垂直上升部分与纵轴之间的区域(深饱和)以及输出特性曲线趋于平坦前弯曲部分区域(浅饱和)。

4)击穿区。

击穿区不是晶体管的工作区域。当uCE大于一定数值后,输出特性曲线开始上翘,若uCE进一步增大,晶体管将击穿损坏。将每一条输出特性曲线开始上翘的拐点连成一线,右边部分即为击穿区,如图3-7所示。

3.晶体管的主要参数

①电流放大系数β。

②集-基极间反向饱和电流ICBO和集-射极间反向饱和电流ICEO

③集电极最大允许电流ICM

④集电极最大允许耗散功率PCM

⑤集-射极间反向击穿电压U(BR)CEO

特征频率fT