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XPS分析及其在水溶性纤维素醚合成中的应用

【摘要】:X射线光电子能谱早期称作化学分析电子能谱,是目前常用的表面分析技术之一,主要用于成分和化学态的分析。利用X射线光电子能谱可以进行除氢以外的全部元素的定性、定量、化学状态分析以及元素浓度纵向深度分析。选择SNF进行刻蚀是由于它在水泥颗粒表面的吸附层厚度范围大致确定,为0.5~1nm,远低于10nm,因此可采用角分辨XPS的方法确定吸附层厚度,然后采用Ar离子刻蚀,以标定仪器的刻蚀速率。

仪器:Thermo ESCALAB 250型多功能X射线电子能谱仪(thermo electron corporation,U.K.),由激发源(X射线源是Al的特征Kα射线,能量为1486.6eV)、样品分析室、能量分析器、电子检测器、记录控制系统和真空系统等组成。

刻蚀条件:Ar离子能量:2.0kV;束流:1.0μA。XPS条件:高压:12kV;发射电流:16mA;FAT高分辨。分析室本底真空度:7×10-7Pa。

制样方法:将浓度为10mg/L的减水剂溶液10mL与5g水泥搅拌15min左右,静置1h,使水泥对减水剂达到吸附平衡,离心分离,用无水酒精终止水化,于50℃烘至绝干,压成粉状,用贴有双面胶的样品台黏附少量粉状水泥,放入仪器样品室内,抽真空到规定真空度,在N2保护下测定。

X射线光电子能谱早期称作化学分析电子能谱(electron spectroscopy for chemical analysis,ESCA),是目前常用的表面分析技术之一,主要用于成分和化学态的分析。利用X射线光电子能谱可以进行除氢以外的全部元素的定性、定量、化学状态分析以及元素浓度纵向深度分析。

图2.6 XPS角分辨测试原理示意图

I0—光电子初始强度;Ib—光电子逸出强度;N—试样法线方向;b—光电子法线方向逸出深度,b=3λ(Ek)cosθ

(1)XPS角分辨法原理

设初始光电子的强度为I0,在固体中经过db距离,强度损失了dI,于是有:

dI=-I0dbλ(Ek

(2.11)(www.chuimin.cn)

λ(Ek)是一个常数,与电子动能Ek有关,称为光电子非弹性散射自由程或电子逸出深度,如果b代表垂直于固体表面并指向固体外部的方向是“平均逸出深度”,对式(2.11)积分并代入边界条件(b=0,I=I0),即可以得到光电子垂直于固体表面出射时,经历厚度为b之后的强度:

Ib=I0exp[-b/λ(Ek)]

(2.12)

如果光电子是沿着与固体表面法线呈θ角并指向固体外部的方向输运时,公式变为:

Ib=I0exp[-b/λ(Ek)cosθ]

(2.13)

一般而言,λ(Ek)与自由能之间有如下关系:λ(Ek)=AnE-2+Bn(Ek1/2对有机分子各常数取值为An=49,Bn=0.11。通过对不同角度XPS谱图积分可得不同角度的Ib,而I0与厚度b不变,两式相除,即可得到吸附层厚度b。

(2)刻蚀测试原理

在一定深度范围内变角XPS分析是可行的,但是如果吸附层厚度太大,变角XPS进行深度分析得到的结果偏差较大。因此本试验采用吸附层较薄的SNF减水剂进行变角XPS测试,然后对吸附SNF的水泥试样利用Ar离子刻蚀的方法进行深度剖析,以此校正实验仪器在相同的实验条件下,Ar离子在吸附层的刻蚀速率。在此基础上,通过刻蚀的方法研究其他几种减水剂的吸附层厚度。选择SNF进行刻蚀是由于它在水泥颗粒表面的吸附层厚度范围大致确定,为0.5~1nm,远低于10nm,因此可采用角分辨XPS的方法确定吸附层厚度,然后采用Ar离子刻蚀,以标定仪器的刻蚀速率。本文合成的减水剂与SNF减水剂分子结构方面差异较大,吸附层厚度也可能差别较大,可能不适合采用变角XPS测试方法来确定其厚度,所以采用Ar离子刻蚀的方法确定吸附层厚度。吸附几种不同减水剂水泥水化试样刻蚀时,当C1s电子强度达到与未掺加减水剂水泥样相当的程度时,判定为刻蚀完毕,记录刻蚀时间,计算吸附层厚度。