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如何提高真空中的绝缘强度和抗击穿能力?

【摘要】:此时,在绝缘击穿过程中起重要作用的是电极过程与金属蒸气。这三种引起真空击穿的原因并不是孤立的,是相互关联而又同时发生作用的。真空中的绝缘击穿电压,根据电极材料与表面状态的不同而有显著差别。通常,电极材料的熔点或机械强度越高其绝缘击穿电压也越高。

如图6-24所示,当间隙压力由大气压状态逐渐降低时,起初绝缘强度随着降低,但进一步降低压力时,绝缘强度又重新升高,当压力降到1.33×10-2 Pa(10-4mmHg)以下时,得到大致不变的绝缘强度。

在10-2 Pa以下(10-4 torr以下)的高真空中,由于空间中气体的分子数量非常少,例如在常温下101.3kPa(1atm)空气中,每立方厘米内只有2.683×1019个气体分子,而在1.33×10-2Pa真空中,每立方厘米只有3.4×1012个气体分子,因而不会因碰撞而造成真空间隙击穿,分子数量与绝缘击穿无关。此时,在绝缘击穿过程中起重要作用的是电极过程与金属蒸气。关于引起真空击穿的原因,已提出了下列三种假说:

1.场致发射

电场强度集中于阴极表面的微小突起和尖端部分,引起电子发射,使该部分金属熔化蒸发而发展成电弧

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图6-24 绝缘强度与气压的关系

电极材料—钨 间隙距离—1mm

2.团粒的作用

附着在电极表面上的微小金属屑等(统称为团粒),受到电场作用从一极加速通过真空间隙到达另一极,团粒和电极碰撞,使团粒熔化和蒸发,金属蒸气被电子游离,导致绝缘击穿。

3.电极的二次发射

间隙中的正离子和光子等,撞击阴极而引起二次电子发射,或加强了场致发射而引起绝缘击穿。

这三种引起真空击穿的原因并不是孤立的,是相互关联而又同时发生作用的。许多研究者认为:当真空间隙(电极间距离)很小时,击穿主要由场致发射引起;真空间隙较大时,团粒的作用成为击穿的主要原因;而由电极二次发射造成击穿的可能性极小。真空中的绝缘击穿电压,根据电极材料与表面状态的不同而有显著差别。通常,电极材料的熔点或机械强度越高其绝缘击穿电压也越高。在电极表面有突起的部分时,其耐压强度即显著降低,为了消除此种电极表面的突起,需要进行放电处理(老炼处理)。此外,当电极表面附着有气体或有机物时,在较低电压下即发生绝缘击穿,因此,必须注意使电极表面非常清洁。

真空间隙击穿所需时间极短,一般在数十至一百多纳秒(ns)内。真空击穿初始阶段的电流由间隙上的分布电容贮能提供,当电源功率足够大时,击穿才能发展成真空电弧。在电力系统中,电源功率很大,所以真空触头间的击穿通常都能转变成真空电弧。