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电路元器件引线的镀锡技术

【摘要】:通常情况下,对电子元器件进行批量镀锡时,可以使用锡锅进行。镀锡时将元器件适当长度的引线插入熔融的锡铅合金中,待润湿后取出即可。图8-26 普通电子元器件镀锡的方法图8-27 半导体器件的引线镀锡方法图解演示除此之外,当对有孔的小型焊片进行镀锡处理时,浸入的深度应要没过孔2~5mm,保持小孔畅通无堵,便于芯线在焊片小孔上网绕,如图8-28所示。图8-28 带孔小型焊片的镀锡方法

镀锡是指用液态焊锡对被焊金属表面进行浸润,形成一层既不同于被焊金属又不同于焊锡的结合层。该结合层是将焊锡与待焊金属这两种性能、成分都不相同的材料牢固连接起来。为了提高焊接的质量和速度,最好在电子元器件的待焊面镀上焊锡,这是焊接前一道十分重要的工序,尤其是对于一些可焊性较差的元器件,镀锡更是至关紧要的。

通常情况下,对电子元器件进行批量镀锡时,可以使用锡锅进行。锡锅的作用是保持焊锡的液态,但是温度不能过高,否则锡的表面将很快被氧化。镀锡时将元器件适当长度的引线插入熔融的锡铅合金中,待润湿后取出即可。

图解演示

(1)首先用小刀刮去普通电子元器件氧化膜的引线,如图8-26所示,然后将电子元器件的引线插入熔融锡锅中,元器件外壳距离液面保持3mm以上,浸入时间为2~3s即可。

(2)一些半导体元器件对热度比较敏感,所以在对其进行镀锡时,其外壳应距离液面保持5mm以上,浸入时间约为1~2s,如图8-27所示,若浸入时间过长,大量热量传到器件内部,则易造成器件变质、损坏。

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图8-26 普通电子元器件镀锡的方法

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图8-27 半导体器件的引线镀锡方法

图解演示

除此之外,当对有孔的小型焊片进行镀锡处理时,浸入的深度应要没过孔2~5mm,保持小孔畅通无堵,便于芯线在焊片小孔上网绕,如图8-28所示。

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图8-28 带孔小型焊片的镀锡方法