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复合材料焊点中的凸点下厚膜铜加固技术

【摘要】:在接下来对于复合材料焊点的讨论中,UBM层的铜的厚度为5μm。97Pb3Sn焊料电镀在溅射钨化钛/铜/电镀铜所组成的UBM层之上,随后在380℃下进行回流。平整化后的共晶焊料凸点的厚度约为40μm。在室温下相同复合材料倒装芯片焊点的电迁移展现出了相似的失效模式,但与电流密度之间存在十分密切的关系[21]。在4.07×104 A/cm2的电流密度下,复合材料焊点经过1个月的电迁移试验也没有失效,但通以4.58×104 A/cm2的电流仅10 h后,就发生了失效。

在接下来对于复合材料焊点的讨论中,UBM层的铜的厚度为5μm。图4.4中显示了其横截面的SEM照片。芯片一侧的金属化层的成分为钨化钛(0.2μm)/铜(0.4μm)/电镀铜(5μm)。在基板一侧,焊盘的金属化层是化学镀镍(5μm)/金(0.1μm)。97Pb3Sn焊料电镀在溅射钨化钛/铜/电镀铜所组成的UBM层之上,随后在380℃下进行回流。

在高分子聚合物基板上,37Pb63Sn共晶焊料用丝网印刷的工艺刷制在化学镀镍/铜层上,并完成焊盘的制作,随后在220℃下进行回流。在完成组装前,利用结块工艺对回流后的焊点进行平整化,该部分在第4章中讨论过。平整化后的共晶焊料凸点的厚度约为40μm。为使上下焊点连接,我们在平整化的高分子聚合物基板上覆盖水溶性助焊剂,然后在温度峰值为220℃的条件下进行回流,并在氮气气氛下保温90 s。在完成组装并清洗残留的助焊剂后,用环氧树脂填充芯片与基板间的空隙。

电迁移试验的传导电流为0.5 A,在直径为50μm的接触窗口处的平均电流密度为2.55×104 A/cm2。这样的电流密度不足以在5μm厚的铜层中造成电迁移损伤,但是在从阳极的锡铅共晶焊料处产生的反向锡扩散通量运动至阴极处高铅区域后,锡和铜会反应形成Cu3 Sn,并进一步形成Cu6Sn5。最终,当铜被全部耗尽之后,如图4.4所示,会发生失效。

在室温下相同复合材料倒装芯片焊点的电迁移展现出了相似的失效模式,但与电流密度之间存在十分密切的关系[21]。在4.07×104 A/cm2的电流密度下,复合材料焊点经过1个月的电迁移试验也没有失效,但通以4.58×104 A/cm2的电流仅10 h后,就发生了失效。在通以再略高一些的电流密度5.00×104 A/cm2,仅0.6 h后,其就因复合焊料的熔化而发生了失效。由于阴极Cu6 Sn5的生长,铜层迅速耗尽,随后在接触区域形成了孔洞。孔洞导致接触区域面积减小,使导电通路发生改变,从而影响了电流集聚效应和焊料凸点内部焦耳热的产生。

在室温下,锡是锡铅共晶焊料中主要的扩散组元。我们发现锡在电迁移中会迁移至阳极。由于锡不会迁移至阴极,Cu3 Sn在阴极接触处是稳定的,因此器件应当不易失效。在室温测试中,样品只会在很高的电流密度下才会发生失效。这表明焦耳热的产生,导致当焊点处的实际温度高于100℃时,锡才会迁移到阴极。