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倒装芯片共晶焊点电迁移问题分析

【摘要】:我们测试两种焊料凸点并比较它们的电迁移现象。第一次回流在把焊料凸点印刷在芯片上后完成,第二次回流是为了组装芯片和印刷线路板。为了对焊料凸点电迁移进行实时观测,在电迁移测试之前,我们采用机械和化学方法将一对焊料凸点切为截面并抛光。为了可以进行观察,要时常暂停电迁移试验,所以观察是不连续的且在不同的时间下重复进行的。图9.8观察电迁移时所用倒装芯片焊点两个横截面的原理

我们测试两种焊料凸点并比较它们的电迁移现象。测试对象是锡铅共晶焊料和SnAg3.8Cu0.7,它们被置于硅晶片上化学镀UBM镍基薄膜和在印刷线路板上电镀铜焊盘之间,在标准大气压条件下,其测试温度为120℃(置于加热板上),测试电流为1.5A。焊点是用不锈钢模板,将焊膏丝网印刷后,在带炉中以240℃的峰值温度下回流两次形成的。第一次回流在把焊料凸点印刷在芯片上后完成,第二次回流是为了组装芯片和印刷线路板。在组装完成之后,芯片和基板间的缝隙,将用环氧树脂底部填料填充。UBM镍基薄膜上的金属间化合物经历了两次回流,而铜焊盘上的金属间化合物只经历了一次回流。

为了对焊料凸点电迁移进行实时观测,在电迁移测试之前,我们采用机械和化学方法将一对焊料凸点切为截面并抛光。焊点与芯片的有效接触部分的直径是100μm。当施加1.5A的电流时,可以通过焊点与芯片的有效接触部分,计算出平均电流密度为3.8×104 A/cm2。这是以二氧化硅掩膜层露出的面积的一半为基础而计算得到的,而不是基于焊料凸点直径的一半得到的。

抛光处理过程会导致碳化硅和金刚石颗粒嵌入并残留在焊料的表面,这些颗粒的尺寸大约为1μm,它们被用作惰性扩散标记,来计算由电迁移驱动的原子扩散通量。用扫描电子显微镜(SEM)、能量色散光谱仪(EDS)、光学显微镜(OM)可以观察惰性标记物的运动和表面形貌的变化。为了可以进行观察,要时常暂停电迁移试验,所以观察是不连续的且在不同的时间下重复进行的。在这个测试的最后,在垂直于第一次横切的方向上,样品又被横切了一次,以便用于扫描电子显微镜观察。两个横截面的原理如图9.8所示。

图9.8 观察电迁移时所用倒装芯片焊点两个横截面的原理