如何绘制木亭？学习草绘和拉伸技巧！

2023-06-19 理论教育版权反馈

【摘要】：图9-13 对话框图9-14 夹层基准面14）单击选项卡组中的工具按钮，打开控制板，单击控制板中按钮以确认生成曲面；单击下拉列表中的按钮，在界面中选择作为草绘基准面，在对话框中设定视图方向和特征生成方向，运用直线命令绘制如图9-15所示长为“296.00”、宽为“14.00”的矩形截面，单击对话框中的按钮完成草绘。图9-17 对话框图9-18 夹层2截面21）在控制板中选择拉伸模式为，并输入拉伸深度为“14.00”，打开选项卡，勾选选项形成拉伸特征，并命名为。

在创建木亭模型时，用户需要综合运用参考命令，利用参考定义以及定位尺寸，有利于简化作图步骤，并希望用户在绘制木亭时能够构建更加简便的方法。

1）单击【新建】按钮选择【零件】类型并输入名称为“fanli-1”，取消勾选【使用默认模板】，如图9-1所示的【新建】对话框，单击【确定】按钮，出现如图9-2所示的【新文件选项】对话框，单击mmns_part_solid模板，单击【确定】按钮。

图9-1 【新建】对话框

图9-2 【新文件选项】对话框

2）单击【模型】选项卡【形状】组中的【拉伸】工具按钮，打开如图9-3所示的【拉伸特征】控制板。

图9-3 【拉伸特征】控制板

3）单击控制板中【曲面】按钮以确认生成曲面；单击如图9-4所示的【放置】下拉列表中的【定义】按钮，系统显示【草绘】对话框。

4）在界面中选择【TOP】平面作为草绘基准面，在【草绘】对话框中设定视图方向和特征生成方向（一般使用默认设置），如图9-5所示。

图9-4 【放置】下拉列表

图9-5 【草绘】对话框

5）单击【草绘】对话框中的【草绘】按钮进入草绘界面，单击【快速设置栏】中的【草绘视图】按钮，使得草绘平面与屏幕平行，并在草绘环境中运用【线】命令绘制如图9-4所示的拉伸截面。

6）绘制完毕后单击【草绘】选项下的【确定】按钮完成草绘，在【拉伸特征】控制面板选择拉伸模式为【指定深度拉伸】，并输入具体的拉伸尺寸“20.00”并更改拉伸方向为向下拉伸。

7）勾选【选项】下拉列表中的【封闭端】选项，单击【应用】按钮完成如图9-5所示拉伸曲面的创建，在模型树中右击刚刚创建的拉伸特征，从中单击【重命名】选项将其命名为【底座】。

图9-6 拉伸截面

图9-7 底座

8）单击【模型】选项卡【形状】组中的【拉伸】工具按钮，打开【拉伸特征】控制板，单击控制板中【曲面】按钮以确认生成曲面；单击【放置】下拉列表中的【定义】按钮，在界面中选择默认方向显示时【底座】上表面作为草绘基准面，运用直线命令绘制如图9-8所示拉伸截面，并且截面右下角端点距离X、Y轴的距离均为“60.00”，单击【草绘】对话框中的【确定】按钮完成草绘。

9）在【拉伸特征】控制板选择拉伸模式为【指定深度拉伸】并输入拉伸深度为44，打开【选项】下拉列表并勾选【封闭端】选项，形成如图9-9所示拉伸特征，在模型树中选中该特征右击，将其重命名为【支柱】。

图9-8 支柱截面

图9-9 拉伸支柱

10）选中需阵列的曲面特征【支柱】，单击【模型】选项卡【编辑】组中的【阵列】按钮，打开如图9-10所示的【阵列】控制板。

图9-10 阵列控制板

11）更改阵列类型为【方向】，选择如图9-11所示长方体下边线作为第一方向的方向参照并运用【方向】按钮调整阵列方向，在控制中输入第一个方向的阵列数“2.00”、阵列间距“200.00”。

12）单击控制板方向2并选择如图9-11所示长方体的左边线作为第二个方向参照，输入第二个方向的阵列数“2.00”、阵列间距“200.00”，完成如图9-12所示的方向阵列特征的创建。

图9-11 阵列参照

图9-12 方向阵列

13）单击【模型】选项卡【基准】组中的创建基准【平面】按钮，打开如图9-13所示的【基准平面】对话框，单击选择【底座】的顶面作为参考基准面，在【基准平面】对话框【偏移】栏中输入偏移距离为“100.00”，形成如图9-14所示特征，单击【基准平面】对话框中的【属性】选项并输入基准平面名称为【夹层基准面】，单击【确定】，完成偏移基准面的创建。

图9-13 【基准平面】对话框

图9-14 夹层基准面

14）单击【模型】选项卡【形状】组中的【拉伸】工具按钮，打开【拉伸特征】控制板，单击控制板中【曲面】按钮以确认生成曲面；单击【放置】下拉列表中的【定义】按钮，在界面中选择【夹层基准面】作为草绘基准面，在【草绘】对话框中设定视图方向和特征生成方向（一般使用默认设置），运用直线命令绘制如图9-15所示长为“296.00”、宽为“14.00”的矩形截面，单击【草绘】对话框中的【确定】按钮完成草绘。

15）在【拉伸特征】控制板选择拉伸模式为【指定深度拉伸】并输入拉伸深度为“14.00”，单击【更改拉伸方向】按钮使其向下拉伸，打开【选项】选项卡，勾选【封闭端】选项形成拉伸特征并在模型树中将其重命名为【夹层1】。

16）选中需阵列的曲面特征【夹层1】，单击【模型】选项卡【编辑】组中的【阵列】按钮，打开【阵列】控制板。

17）更改阵列类型为【方向】，选择【底座】棱边作为第一方向的方向参照并运用【方向】按钮调整阵列方向，在控制中输入第一个方向的阵列数“2.00”、阵列间距“28.00”。

18）选择模型树中的【阵列2/夹层1】特征，单击【模型】选项卡【编辑】组中的【镜像】按钮，打开【镜像】控制板，选择【RIGHT】基准面为镜像平面，单击【应用】按钮，完成如图9-16所示镜像特征的基本操作。

图9-15 夹层1截面

图9-16 夹层1

19）单击【模型】选项卡【形状】组中的【拉伸】工具按钮，打开【拉伸特征】控制板，单击控制板中【曲面】按钮以确认生成曲面；单击【放置】下拉列表中的【定义】按钮，在界面中选择【夹层1】上表面作为草绘基准面，单击【草绘】对话框中的【草绘】按钮进入草图绘制界面，单击【快速设置栏】中的【草绘视图】按钮，使得草绘平面与屏幕平行便于拉伸截面的绘制。

20）单击【设置】组中的【参考】按钮，打开如图9-17所示的【参考】对话框，单击【底座】边缘轮廓线作为参考线，以便于【夹层2】的绘制，运用【拐角矩形】命令绘制如图9-18所示的矩形截面并调整，单击【草绘】对话框中的【确定】按钮，完成截面草绘。

图9-17 【参考】对话框

图9-18 夹层2截面

21）在【拉伸特征】控制板中选择拉伸模式为【指定深度拉伸】，并输入拉伸深度为“14.00”，打开【选项】选项卡，勾选【封闭端】选项形成拉伸特征，并命名为【夹层2】。

22）在模型树中选中需阵列的曲面特征【夹层2】，单击【模型】选项卡【编辑】组中的【阵列】按钮，打开【阵列】控制板。

23）更改阵列类型为【方向】，选择【底座】特征棱边作为第一方向的方向参照并运用【方向】按钮调整阵列方向，在控制中输入第一个方向的阵列数“4.00”、阵列间距“28.00”。

24）选择模型树中的【阵列3/夹层2】特征，单击【模型】选项卡【编辑】组中的【镜像】按钮，打开【镜像】控制板，选择【FRONT】基准面作为镜像平面，单击【应用】按钮，完成镜像特征的基本操作，如图9-19所示。

25）运用相同方法创建【夹层3】～【夹层7】，在绘制【夹层6】以及【夹层7】时，对夹层截面进行拉伸并将其阵列、镜像，修改【选择过滤器】选项为【面组】并选择【夹层6】。

26）单击【操作】组常规粘贴下拉列表中的【选择性粘贴】按钮，打开如图9-20所示的【选择性粘贴】控制板。

图9-19 夹层2

图9-20 【选择性粘贴】控制板

27）接受系统默认形式复制即平移复制，选择【FRONT】面为参照平面进行偏移，如图9-21所示。

28）输入平移距离为“165”，并取消【选项】选项卡中的【隐藏原始几何】选项，单击【应用】按钮完成平移复制特征的创建，如图9-22所示。

图9-21 选择曲面

图9-22 选择性粘贴

29）运用绘制【夹层1】的方法创建【夹层8】～【夹层12】，（详细尺寸如阵列间距、拉伸截面长度等请参考源文件第9章∣fanli-1.prt），在创建夹层拉伸特征时要灵活运用参考命令，以简化操作步骤，并且要遵循每夹层拉伸截面长度增加40，即两边各增加20；所有夹层创建完成后，形成的特征如图9-23所示，以上所运用的详细特征如图9-24所示。